光学镀膜材料二氧化硅（SiO₂）产品介绍
一、产品基本信息
名称：光学级二氧化硅
化学式：SiO₂
外观：无色透明/乳白色致密烧结颗粒、压片、块状
纯度：99.99% / 99.999%
形态：1–3mm、3–5mm 颗粒
CAS：
二、光学核心性能
折射率：约 1.45–1.46 @550nm，低折射率稳定可控
透光波段：200nm～10μm，深紫外到中远红外透过率
消光系数趋近于零，无吸收、无散射，膜层高透明
膜层致密均匀、硬度高、附着力优异
内应力小、不龟裂、耐湿热、耐酸碱、抗刮耐磨
真空蒸发/电子束蒸发稳定性强，出气量少、无飞溅、成膜平整
三、主要用途（光学镀膜核心基础材料）
高端增透膜（AR）、减反膜、宽带增透膜
手机镜头、相机镜头、安防监控镜头、车载光学镜头、眼镜镜片
精密滤光膜、分光膜、高反膜、多层干涉膜系
红外光学窗口、激光镜片、投影光学元件、光学棱镜
光学仪器保护膜、绝缘膜、阻隔膜、抗反射防护膜
显示面板、光伏玻璃、光通信器件镀膜
四、工艺适配
适用：电子束蒸发（E-beam）、真空热蒸发、离子辅助镀膜（IAD）、磁控溅射
常用搭配材料：Nb₂O₅、TiO₂、ZrO₂、HfO₂、Ta₂O₅
镀膜工艺兼容性强，膜层参数重复性好，适合大批量高精度量产
五、产品优势
超高纯度致密烧结，蒸发过程稳定，杜绝飞溅缺陷
全波段高透过、低吸收，打造高端光学膜系核心材料
化学稳定性极强，膜层长期使用不黄变、不老化、不脱层
低应力特性，适配各类光学基材，提升膜层使用寿命
是光学低折射率膜层的标配材料