全自动晶圆单面刷洗机

单价: 300000.00元/台
发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
所在地: 广东 深圳
有效期至: 长期有效
发布时间: 2023-12-15 15:21
最后更新: 2023-12-15 15:21
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详细说明


全自动晶圆单面刷洗机有效去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元,各部分有独立控制,随意组合。


全自动晶圆单面刷洗机结构:


采用三套独立的电脑控制机械臂自动化作业


采用第三代最新技术,全面完善的防酸防腐措施,保护到机器每一个角落


最新全自动补液技术


全自动晶圆单面刷洗机独特的硅片干燥前处理技术,保证硅片干燥不留任何水痕


成熟的硅片干燥工艺,多种先进技术集于一身


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彩色大屏幕人机界面操作,方便参数设置多工艺方式转换


全自动晶圆单面刷洗机特点:


械手或多机械手组合,实现工位工艺要求。


PLC全程序控制与触摸屏操作界面,操作便利。


自动上下料台,准确上卸工件。


全自动晶圆单面刷洗机净化烘干槽,独特的烘干前处理技术,工作干燥无水渍。


全封闭外壳与抽风系统,确保良好工作环境。


具备抛动清洗功能,保证清洗均匀。


全封闭清洗均匀。


全封闭外壳与抽风系统,确保良好工作环境。


全自动晶圆单面刷洗机应用范围:


炉前清洗:扩散前清洗。


全自动晶圆单面刷洗机光刻后清洗:除去光刻胶。


氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。


抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。


全自动晶圆单面刷洗机外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。


合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后,表面杂质及光胶残渣。


离子注入后的清洗:除去光刻胶,SiO2层。


扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。


CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。


全自动晶圆单面刷洗机附件及工具的清洗:除去表面所有的沾污物


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