类型光刻胶型号适用光谱厚度范围/um分辨率适用工艺可用显影液可用去胶液纳米压印胶mr-NIL 6000E热固化和UV固化0.1-150nm可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等 mr-I 9000M热固化0.1-150nm mr-UVCur21UV固化0.1-550nm
| 类型 | 光刻胶型号 | 适用光谱 | 厚度范围/um | 分辨率 | 适用工艺 | 可用显影液 | 可用去胶液 |
| 纳米压印胶 | mr-NIL 6000E | 热固化和UV固化 | 0.1-1 | 50nm | 可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等 | ||
| mr-I 9000M | 热固化 | 0.1-1 | 50nm | ||||
| mr-UVCur21 | UV固化 | 0.1-5 | 50nm |